射頻真空滾筒離子清洗機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

射頻真空滾筒離子清洗機(jī)，在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達(dá)到清洗目的

產(chǎn)品型號(hào)：KT-S2DQX-C

更新時(shí)間：2024-01-11

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品分類

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真空回流焊爐冷阱電解槽小型蒸鍍儀小型濺射儀等離子清洗機(jī)

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品牌	鄭科探	產(chǎn)地類別	國(guó)產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

射頻真空滾筒離子清洗機(jī)，

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性

射頻真空滾筒離子清洗機(jī)KT-S2DQX-C

供電電源	AC220V（AC110V可選)
工作電流	整機(jī)工作電流不大于3.5A(不含真空泵)
射頻電源功率	150W
射頻頻率	13.56MHz
頻率偏移量	＜0.2MHz
特性阻抗	50歐姆，手動(dòng)匹配
耦合方式	電容耦合
真空度	≤50Pa
腔體材質(zhì)	高純石英
腔體容積	Φ100mmX200mm
旋轉(zhuǎn)速度	20轉(zhuǎn)/分鐘
氣體流量	0—300ml/min
過程控制	觸摸屏自動(dòng)控制+手動(dòng)調(diào)節(jié)流量
清洗時(shí)間	手0-999秒
外形尺寸	615X390X560mm
重量	56Kg
真空室溫度	小于65°C
真空計(jì)量程	1E5Pa至1E-1Pa(皮拉尼真空計(jì))
標(biāo)配	KF16真空管1米，kf16卡箍2個(gè)，不銹鋼網(wǎng)匣1個(gè)，電源線一根，說明書一本。